大面積能譜拼接

Phenom MAPS 大面積能譜拼接

多模態(tài)多維度地圖式圖像?動采集及拼接軟件

                   Phenom MAPS 作為?款多模態(tài)多維度地圖式圖像

? 動 采 集 及 拼 接 軟 件 ， 可 ? 動 獲 取 ? 型 圖 像 數(shù) 據(jù)

集 ， 并直觀地組合和關(guān)聯(lián)多種成像 、 分析模式 ， 從

?提供多尺度和多模態(tài)的表征數(shù)據(jù)。

該軟件?持 Phenom 全系列臺式掃描電?顯微鏡型

號 ， 包 括 Phenom XL G2 、 Phenom Pharos G2

和 Phenom ProX。 歡迎聯(lián)系我們升級體驗。

MAPS 核?功能

Phenom MAPS 大面積能譜拼接提供：

  ??積?動數(shù)據(jù)采集： 實現(xiàn)?動化?縫全景拼圖和??積 EDS 能譜數(shù)據(jù)采集

  CISA 多平臺數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)： 光鏡、 拉曼、紅外、XPS ，甚? CAD 或?繪草圖 ，通通可以關(guān)聯(lián)   多尺度成像?動化： 軟件提供全?動的?質(zhì)量、 多尺度成像解決?案

  跨平臺設(shè)備連接： 不同設(shè)備之間可以進?以樣品為中?的數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)處理?作

  離線數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)管理： MAPS 軟件的離線版本?便您隨時進?數(shù)據(jù)處理并規(guī)劃下?次成像?作

?動數(shù)據(jù)采集

??可以在各種樣本上設(shè)置和運?多個圖塊集 ， 實現(xiàn)?動化 、 ??值守的儀器作業(yè) ， 優(yōu)化設(shè) 備操作時間 ， 獲取?質(zhì)量數(shù)據(jù)。

?動數(shù)據(jù)采集技術(shù)讓您?需花費數(shù)?時搜索感興趣的區(qū)域 ， 可以快速輕松拍攝??積拼圖的 同時還能夠?動收集選定區(qū)域的?分辨率數(shù)據(jù)。

此外 ， Phenom MAPS 軟件的離線功能可以幫 您 將 數(shù) 據(jù) 從 設(shè) 備 中 導(dǎo) 出 并 在 任 意 ? 臺 PC 中 隨 時進?數(shù)據(jù)分析。 您可以在 MAPS 軟件中標(biāo)注 數(shù)據(jù)并選擇新的區(qū)域進?數(shù)據(jù)采集 。 該軟件還 可以進?多個數(shù)據(jù)集的?視野圖像?動拼接和 導(dǎo)出 ， 提供多種拼接算法和導(dǎo)出選項 ， 可以導(dǎo) 出 RAW、tile TIFF 或 HD 視圖的兼容格式。

應(yīng)? SEM-EDS 互聯(lián)功能進?材料表征

與傳統(tǒng)技術(shù)相? ， Phenom MAPS 軟件可以幫助您更快地獲取低倍率 、 ??積的 EDS 能譜 圖 ， 從?直觀地顯?整個樣品中的元素分布。（以礦物樣品分析為例）

圖2 . MAPS ??積能譜拼圖結(jié)果

數(shù)據(jù)收集后 ，通過 Phenom MAPS 軟件進?進?步 的定量 EDS 分析。

圖3 . ?持離線數(shù)據(jù)處理： 將 EDS 數(shù)據(jù)導(dǎo)? Phenom 臺式掃描電鏡的 UI 中

MAPS CISA 多平臺數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)

光鏡、 拉曼、 紅外、XPS ， 甚? CAD 或?繪草圖 ， 通通可以關(guān)聯(lián)。

下圖案例： 通過 MAPS CISA ， 將 SEM 和 XPS ?分布以及全譜分析的功能相結(jié)合 ， 分析多孔 砂粒?的表?組成和形貌。

通 過 結(jié) 合 XPS 和 SEM 的 分 析 ， 可 以 精 確 地 將 化 學(xué) 信 息 與 顯微 鏡 提 供 的 ? 分 辨 率 結(jié) 構(gòu) 信 息 融合 。 CISA 關(guān)聯(lián)?作流程尤其適?于研究電池 、 ?分?材料 、 催化劑和?屬等樣品的材料 研究。

應(yīng) ? 案例： 使 ?  Phenom MAPS 軟件 分析 傷?敷料中銀的分布

含 銀 的傷 ? 敷 料 是 ? 種 先 進 的 愈 合 技 術(shù) ， 利 ? 銀 的 抗 菌 特 性 來 預(yù)防感染。 

這 些 敷 料 由 包 括 傷 ? 墊 的 多 層 組 成 ， 傷 ? 墊 含 有 銀 ， 由 吸 收 液 體 的 ? 紡 布 聚 合 物 纖 維 制 成 。 這 些 纖 維 通 過 聚 ? 烯 ? 膜與傷?隔開 ， 防?傷?墊粘在傷?上。

此類敷料的有效性取決于銀的物理和化學(xué)特性以及銀在敷 料 中 的 分 布 情 況 。 如 果 銀 離 ? 濃 度 過 ? ， 則 離 ? 可 能 會 從 敷料中釋放出來并導(dǎo)致細胞毒性作? 。

5 . 含銀的傷?墊可防?感染

利??納臺式掃描電鏡的 MAPS 軟件可以創(chuàng)建?分辨率 EDS 圖 ， 顯?銀在傷?敷料中的 分 布 情 況 。 如 下 圖 所 ? ， 銀 （以 粉 紅 ? 顯 ? ） 排 列 在 聚 ? 烯 ? 的 邊 緣 。 這 可 以 表 征 敷 料 的質(zhì)量及其與銀離?控制釋放的關(guān)系。

圖6 . ?縫全景拼圖： ??積 SEM 傷?敷料拼圖穿孔 ?膜后?是聚合物纖維圖7 . ??積 EDS 圖與 MAPS 軟件中??積敷料能 譜拼圖 ，粉?顯?了銀的分布